电子束光刻系统

电子束光刻系统是Raith的核心业务。我们丰富的产品组合，涵盖从全自动高分辨率系统到多功能工具，可以为您提供理想的EBL系统，以满足您的需求。

电子束光刻系统

FIB-SEM纳米加工系统

Raith独特的FIB-SEM系统定义FIB为优先技术。由场发射SEM和Raith公司独特的激光干涉仪工作台支持，FIB-SEM纳米光刻系统满足了研发纳米原型以及样品制备和显微技术中最苛刻的要求。

VELION

大面积扫描电镜成像

高效、全自动的纳米测量和过程控制与Raith的高精度激光干涉仪台相结合，是Raith扫描电子显微镜精确大面积图像采集解决方案的基础。虽然它对逆向工程应用尤其有价值，但它对任何需要纳米分辨率超过cm²和用于重建的优秀层到层3D精度的应用都是有益的。

CHIPSCANNER

纳米光刻升级组件

我们的纳米光刻升级组件提供了简单和具成本效益的专业纳米光刻和纳米制造。只需将该组件与现有的SEM、FIB、FIB-SEM或HIM相结合，即可作为纳米光刻系统使用。

ELPHY

公司简介

Raith是纳米制造、电子束光刻、FIB SEM纳米制造、纳米工程和逆向工程应用的先进精密技术制造商。客户包括参与纳米技术研究和材料科学各个领域的大学和其他组织，以及将纳米技术用于特定产品应用或生产复合半导体的工业和中型企业。Raith成立于1980年，总部位于德国多特蒙德，拥有超过250名员工。公司通过在荷兰、美国和亚洲的子公司，以及广泛的合作伙伴和服务网络，与全球重要市场的客户密切合作。


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